在半导体设备中,光刻机、刻蚀机都是非常重要的设备,且是不可缺少的设备。
在光刻机方面,国内企业确实较全球顶尖水平ASML等,是落后了很多代,10多年的差距还是有的,这个是事实。
但在刻蚀机方面,却是全球顶尖水平的,并不落后于全球任何其它国外企业。

国内最强的刻蚀机厂商,应该就是中微公司了,一家由归国博士尹志尧于2004年创办的企业,至今也是20来年的历史。
但历史虽短,表现却非常突出,在创办后就迅速推出了国产刻蚀机,然后不断的进步,于2007年就推出了中国首台电容性等离子体刻蚀设备,打破国外垄断。
也因为如此,一度被美国的企业抹黑起诉进行打压,但最终诉讼胜利了,如今早已追上了全球顶尖水平。

并且目前中微公司的刻蚀机,实现了零部件100%国产化,再也不用担心卡脖子。且中微公司的刻蚀机,早就突破到了3nm,还进入了台积电的芯片生产线,去年的时候有消息称,卖了10台刻蚀机给台积电,可见其实力有多强了,毕竟对于台积电来说,不是全球顶级设备,它是不会购买的。
近日,中微公司发布2025年业绩预告,数据显示,2025年营收预计约为123.85 亿元,同比增长约 36.62%。
而净利润预计为20.80 亿元至 21.80 亿元,同比增长约 28.74%至 34.93%。

这些营收中,刻蚀机收入大约为98.32亿元,同比增长约 35.12%,占比在80%左右,另外公司还有LPCVD 和 ALD 等半导体薄膜设备,也是增长迅速,按照官方说法,目前在在薄膜沉积设备、MOCVD设备上,中微公司也达到了全球顶尖水平,特别是氮化镓基LED MOCVD设备,全球领先。
从这些数据可以看到,目前国内的芯片企业,确实是在大规模的使用国产设备,提高国产半导体设备的自给率,所以才会让中微公司的业绩、利润等大增。

从中微公司的例子,我们能够看出来,中国的半导体设备企业,一样是没问题的,只要肯投入,肯研发,一样能够制造出全球顶尖的半导体设备,希望更多像中微这样企业崛起,助力中国芯片产业的崛起。