国家知识产权局信息显示,新存科技(武汉)有限责任公司申请一项名为“阈值开关器件材料和存储器”的专利,公开号CN121793639A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请实施例公开了一种阈值开关器件材料和存储器,所述阈值开关器件材料包括硫族元素粒子、Sn元素粒子和掺杂元素粒子,所述硫族元素粒子包括S元素粒子,所述掺杂元素粒子包括Ga元素粒子;其中,所述硫族元素粒子和所述Sn元素粒子的原子个数之和与所述Ga元素粒子的原子个数的比值范围为1‑20。本申请实施例对硫族元素粒子和Sn元素粒子的原子个数之和与Ga元素粒子的原子个数的比值范围进行合理限定,从而使得Ga元素粒子的掺杂既能有效提升热稳定性,又不至于显著劣化由Sn‑S体系带来的优异开关特性,从而提高了器件的耐久性和一致性。
天眼查资料显示,新存科技(武汉)有限责任公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1785.754万人民币。通过天眼查大数据分析,新存科技(武汉)有限责任公司共对外投资了9家企业,参与招投标项目5次,专利信息213条。
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来源:市场资讯